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铼比钻石更难获得且价格高昂
2024-04-08 03:43:27 1804次浏览
铼是一个真正稀有元素。它在地壳中的含量比所有的稀土元素都小，仅仅大于镤和镭这些元素。再加上它不形成固定的矿物，通常与其他金属伴生。这就使它成为存在于自然界中被人们发现的后一个元素。
科学家是在1908年发现了铼元素，其名称(Rhenium)取自欧洲的莱茵河。铼是高熔点金属之一，甚至比钻石更难取得，因此价格也很高昂。
重要特征：银灰色，重，密度高。
主要生产国：智利、哈萨克斯坦、美国。
重要用途：镍铼髙温合金可用于制造喷气发动机的燃烧室，涡轮叶片及排气喷嘴这些合金多含有6%的铼，成为是铼的实际应用，其次就是作为化工产业中的催化剂，铼比钻石更难获得,因此，价格高昂。由于铼可应用在能喷射引擎及火箭引擎，使得其在军事战略上十分重要。
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ITO，全称为氧化铟锡（Indium Tin Oxide），是一种广泛应用于光电领域的透明导电材料。由于其优异的电导率和透明度，ITO靶材被广泛用于液晶显示器、触摸屏、太阳能电池等各种电子器件的制造中。其主要成分是铟氧化物（In2O3）和锡24-05-09 06:42:01 -
ITO靶材的应用领域：液晶显示器（LCD）： ITO薄膜用作液晶显示器的透明电极，通过在薄膜上施加电场来调节液晶的排列，实现像素的控制。触摸屏： ITO作为触摸屏的导电层，使设备能够对触摸信号做出响应，实现触摸操作。太阳能电池： ITO用作24-05-09 06:39:01 -
随着电子产业的不断发展，对资源的节约和回收利用的要求也日益提高。ITO靶材中含有昂贵的铟元素，因此开发有效的回收方法变得至关重要。化学回收法： 化学回收法主要是通过化学溶解或还原反应将ITO薄膜中的铟元素分离出来。这一过程通常包括酸溶解、络24-05-09 06:36:01 -
ITO靶材的制备通常采用物相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等方法。PVD法通过溅射技术将铟和锡等材料沉积在基材上，形成ITO薄膜。CVD法则是通过气相反应在基材表面生成ITO薄膜。这两种方法都能够生产高质量、均匀的ITO薄膜，但PV24-05-09 06:33:01 -
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ITO靶材的制备通常采用物相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等方法。PVD法通过溅射技术将铟和锡等材料沉积在基材上，形成ITO薄膜。CVD法则是通过气相反应在基材表面生成ITO薄膜。这两种方法都能够生产高质量、均匀的ITO薄膜，但PV24-05-09 06:27:01 -
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